硅晶片plasma電漿清洗去除表面光刻膠。具有高度的均勻性，穩(wěn)定的刻蝕速率。改變了硅晶片原始鈍化層的形貌和潤濕性，大大提高了附著力效果。

金鉑利萊plasma電漿清洗機越來越多地應(yīng)用于在半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片中，能夠高容量自動化處理多個硅晶片。

硅晶片plasma電漿清洗除去硅晶片上的氧化物或金屬等污染物，在半導(dǎo)體集成電路制作中提高了集成電路的產(chǎn)量、可靠性和性能。

金鉑利萊有限公司是自主研發(fā)生產(chǎn)電漿清洗機。不僅針對于大學(xué)/科研機構(gòu)、工廠研發(fā)的實驗室型和工廠批量處理裝置，我們生產(chǎn)的plasma電漿清洗機具有多種規(guī)格、多種配置功能、性能及穩(wěn)定性強且操作方便的特點。

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