在表面處理中，許多半導體材料在加工過程中都需要清洗、刻蝕以確保產(chǎn)品質(zhì)量。因此在半導體行業(yè)中，等離子刻蝕機工藝技術(shù)，半導體真空等離子清洗應(yīng)用愈來愈受人們的重視。

    等離子清洗是半導體封裝制造業(yè)中常見運用化學性質(zhì)形式。這也是等離子清洗擁有比較突出的特色，能夠促進增加晶粒與焊盤的導電的性能。焊料的潤濕性、金屬線的點焊強度、塑料外殼包覆的安全性。在半導體元器件、電子光學系統(tǒng)、晶體材料等集成電路芯片運用中都有廣泛的行業(yè)應(yīng)用。

     半導體封裝中一般使用的是真空等離子清洗機，因為處理的半導體例如：晶圓、支架等產(chǎn)品對工藝環(huán)境的要求很高，所需真空反應(yīng)腔的材質(zhì)選擇也很講究。

    金鉑利萊-半導體行業(yè)真空等離子清洗機一般選擇使用鋁反應(yīng)腔的五大優(yōu)勢：

  (1) 鋁合金密度低，強度高，超過優(yōu)質(zhì)鋼，機械加工性能比較好。

  (2) 鋁具有優(yōu)良的導電性、導熱性和抗蝕性。

  (3)材料對化學反應(yīng)的兼容性比較好，不易產(chǎn)生金屬污染。

  (4)表面處理方面鋁合金較為豐富，包括電泳、噴涂、陽極氧化等。

  (5)趨膚深度鋁是不銹鋼的10倍以上，使得電流分布更均勻，腔體不容易發(fā)熱。

    金鉑利萊注重表面處理解決方案。專業(yè)研發(fā)生產(chǎn)等離子清洗機、等離子活化處理機的科技企業(yè),自主研發(fā)生產(chǎn)的等離子清洗機、真空等離子清洗設(shè)備，大氣常壓等離子表面清洗機、應(yīng)用于多個行業(yè)等離子表面清洗、活化、刻蝕。

文章出自金鉑利萊。轉(zhuǎn)載清注明出處：http://zheilei.cn/xingyezixun/20-95.html